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鉬是一種難熔金屬。它關系到許多高科技領域的進展，也關系到許多經濟部門，如鋼鐵工業、石化工業等部門的可持續發展。近年來鉬的應用不斷飆升，越來越凸顯它是一種重要的不可再生資源。氧化鉬是鉬最重要的化合物，如果2005年全球共消費16萬t鉬，平均以含鉬為52%換算，即約消費31萬t鉬精礦，這樣，其中至少有98%的鉬精礦，即約有30萬t鉬精礦，在應用前要轉化為氧化鉬。
在應用上，氧化鉬是一種終端產品，又是一種中間產品，氧化鉬是環境友好商品，在使用各種氧化鉬過程中不用擔心它對生態環境產生短期和長遠危害。工業氧化鉬是氧化鉬系列產品應用最廣的商品，傳統的工業氧化鉬，無論是桶裝的、還是罐裝的，通常含鉬57%。我國大多數廠家生產的工業氧化鉬含鉬低于57%。在含Mo57%的氧化鉬中尚含大量的銅、鉛、磷、鈣、砷和硅等雜質，工業氧化鉬中的氧化鉬相，有MoO3，還有MoO2，Mo3O8和Mo8O11等低價鉬氧化物，還有銅、鐵和鈣等鉬酸鹽。
隨著科學技術的進步，實驗檢測設備功能不斷深入。傳統方法生產工業氧化鉬的物理與化學性質難以滿足鉬業發展的要求，工業氧化鉬產品面臨前所未有的挑戰，出現許多新的氧化鉬產品。此外，科學家們對已有的氧化鉬，從性能、結構等方面又有新的認識。特別是一些具有前瞻性的研究發現，許多氧化鉬顯示出某些新的性能。
氧化鉬全稱為三氧化鉬(MoO3)。是鉬提純過程中產出的一種重要中間產品。具體生產過程：鉬精礦采用化學氨浸流程進行處理，先產出鉬酸銨，再產出仲鉬酸銨。將仲鉬酸銨煅燒，產出的即為三氧化鉬(純度可達99.95%)。氧化鉬即可作為添加劑成品直接煉鋼，也可作為制取金屬鉬粉的原料。
1.高溶性氧化鉬
2001年加拿大的原生鉬礦Endako礦的研究小組研制成功一種稱作高溶性氧化鉬(HighsolubemolyOxide)。它的問世立即受到眾多鉬化學品生產商的青睞。據報導，2002年該鉬礦生產的優質鉬精礦大部分加工為高溶性氧化鉬，2003年生產近5000t鉬又加工為這種產品，利用這種產品又加工成各種鉬化學品，如鉬酸鹽、鉬催化劑、鉬潤滑劑等，該化學品消耗鉬占總產量的50%以上。
2.工業氧化鉬
傳統的工業氧化鉬生產法是用回轉窯或多膛爐氧化焙燒鉬精礦。GünterBauer用高壓氧化鉬精礦生產工業氧化鉬。。在工藝過程中將反應釜的排料經過濾再將過濾液的一部分返回高壓反應釜，這部分循環液向釜內輝鉬礦漿料提供大量的熱能，從而可以確保釜內所需的熱量，加上反應是放熱反應，釜內氧壓達到2MPa時，輝鉬礦大部分被氧化為三氧化鉬。其工藝流程示于圖。
3.氧化鉬壓塊
氧化鉬壓塊(MolybdenumOxidebriquettes)是各類含鉬合金鋼，如低合金鋼、鑄鐵、鑄鋼、合金鋼和不銹鋼的合金添加劑，應用十分廣泛。美國肯尼柯特銅公司的KennecotHoldingsCo.詳盡地研究了氧化鉬壓塊的生產方法，共研究五種配方。其中以化學純級三氧化鉬為原料，該物料細度如下：5～10μm10%，10～16μm50%，25～50μm80%，35～70μm70%。
4.α-三氧化鉬
α-MoO3是一種性能十分優異的抑煙阻燃劑，與鐵系化合物(二茂鐵、氧化鐵)、銅系化合物(氧化銅)、金屬氫氧化物(氫氧化鋁和氫氧化鎂)、硼酸鋅等抑煙劑比較，α-MoO3與八鉬酸銨的抑煙效果最好。PVC燃燒發煙主要與其熱解過程所產生的苯等芳香族化合物有關，這類化合物含量越高，燃燒發煙量就越大，α-MoO3在PVC熱解初期可促進分子間的交聯反應，生成炭化物。α-MoO3通常可用鉬酸蒸發結晶制成。
5.化學純三氧化鉬
化學純三氧化鉬(CGMo)含MoO3>99.95%，粒度≥5μm、松裝密度>0.8g/cm3。用作催化的三氧化鉬粒度更細。用改進的POX-MoSX法(高壓氧化溶劑萃取法)制出含MoO3>99.95%、S0.0001%、P0.0001%、K0.0008%、Al<0.0001%、Ca0.0005%、Co0.0001%、Mg0.0005%、Pb0.0001%、Sn0.0001%、Ti0.0001%、Fe0.0001%、Cu0.0005%、Zn0.0001%、V0.0001%和Zr0.0001%的化學純三氧化鉬，其原料為含Mo15%～17%低品位鉬中間產品，鉬回收率為98.5%。三氧化鉬還用于生產有機鉬化合物等。
6. 納米三氧化鉬
1）納米三氧化鉬帶
納米三氧化鉬帶(nanotrimolyOxideBelt)，該帶狀物斷面約30～300nm、厚5～50mm、長2～4μm。其電子顯微鏡照像圖如圖所示。
該納米材料的制法是在遠紅外加熱爐中，先放入拋光硅片，再在硅片上放置15mm×15mm×0.2mm的鉬箔，將加熱爐加溫至850℃保溫20min，鉬箔被氧化成三氧化鉬。X-射線衍射分析顯示，該三氧化鉬為斜方晶系，晶格常數a=0.398nm、b=0.13nm，而后對納米三氧化鉬帶進放電試驗。試驗以斷面為1mm2的鋁棒為陽極、三氧化鉬帶為陰極，電壓從0～1100V，陽極與陰極間的間距分別為45μm、50μm、60μm和80μm。
2）納米三氧化鉬
用升華-驟冷法可生產出直徑30nm、長80～100nm的納米三氧化鉬。其原料為24～260μm的工業氧化鉬。納米三氧化鉬是氟化反應的催化劑，醇氧化為醛的催化劑。最近CyprusAmax公司納米三氧化鉬用氫還原制出比表面為2.5m2/g的鉬粉。
7.二氧化鉬
二氧化鉬是一種棕紫的晶體，屬單斜晶系，含Mo74.99%，密度6.44g/cm3。早在1982年有人就試圖將輝鉬礦與三氧化鉬蒸氣在回轉窯中反應制取二氧化鉬，但反應難以控制，產物不純。當今制取二氧化鉬的方法依舊是用氫還原二鉬酸銨或化學純三氧化鉬或用氫還原二鉬酸銨與三氧化鉬的混合物。也有用氫還原仲鉬酸銨的，還原在回轉爐中進行，也可將二鉬酸銨加在舟皿中于多管爐中進行。
二氧化鉬濺射膜。首先將含MoO290%～99.5%的二氧化鉬粉在7～28MPa等靜壓壓制成極板，于真空爐中，在1250℃下燒結6h形成二氧化鉬靶坯，而后用磁控濺射或脈沖激光濺射或離子束濺射，將二氧化鉬濺射在基材上，基材可以是塑制材料、破璃基材、陶瓷基材和混合材料。其塑料基材為聚降冰片烯，陶瓷基材為藍寶石(Al2O3)。二氧化鉬沉積在基材上形成二氧化鉬薄膜，膜厚為0.5～10μm，而后測定了二氧化鉬的功函(Workfunction)，一般要求銦-氧化錫(ITO)等發光二極管材料的功函典型的數值為4.7eV。
經測定上述二氧化鉬濺射膜的功函為4.7～6eV，高于銦-氧化錫膜。此外二氧化鉬膜表面的糙度比銦-氧化錫低，其糙度小于5nm。在波長為350～800nm下，二氧化鉬膜的透射率大于85%。電阻率小于300μΨcm。研究結果顯示，二氧化鉬膜具有優異的電性、光性和物理表面光潔等特性，可廣泛用于發光二極管(OLED)、液晶顯示裝置(LCD)等、離子顯示板(PDP)、場射顯示板(FED)、薄膜太陽能電池、低電阻歐姆觸點材料和其它電子材料和半導體材料。應該說對二氧化鉬膜的研究目前處于起步階段，研究將日趨廣泛和深入。
[1] 百科知識數據辭典
[2] 氧化鉬研發進展