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1314-91-6/納米半導體碲化鉛材料的高壓合成方法

背景技術(shù)

PbTe是一種很好的熱電材料。采用不同的制備方法,對于其熱電性能有很大的影響。在許多的制備熱電材料的方法中,主要是通過提高材料的電導率,同時降低材料的熱導率(主要是降低材料的晶格熱導率)來提高材料的熱電性能。

與本技術(shù)相關(guān)的背景技術(shù)是以Pb粉和Te粉為原料,按化學計量比(Pb∶Te=0.49∶0.51)混合,然后在10-3Pa以上的高真空、1200K高溫條件下燒結(jié)12小時左右。制備出的PbTe材料多為晶粒在微米量級的單晶或者多晶,熱導率的值約在2.3w/m.k,電阻率的值在10-4Ω·m量級。將這種材料用于制備熱電器件,其熱電性能較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明采用新的制備PbTe材料的方法——高壓合成方法,主要解決提高材料的熱電轉(zhuǎn)換性能這一技術(shù)問題,以利于實際應(yīng)用。PbTe材料的熱導率與它的晶粒大小有一定的關(guān)系,本發(fā)明用控制高溫高壓合成的條件,特別是壓力大小,讓PbTe材料的晶體粒度在納米量級,從而使熱導率下降、電阻率降低。

本發(fā)明的塊納米半導體PbTe材料的高壓合成方法,以鉛粉(Pb)和碲粉(Te)為原料,經(jīng)混料壓塊、組裝、高溫高壓合成、冷卻等工藝過程制得PbTe材料。所說的混料壓塊,是將鉛粉和碲粉按摩爾比1∶1進行混合,按合成腔體大小壓成塊狀。所說的組裝,是將塊狀原料裝入加熱容器中。所說的高溫高壓合成,是在高壓裝置,比如六面頂壓機上進行的,合成條件是壓力為1.0~6.0Gpa、溫度為850~1400K,保溫保壓20~40分鐘后停止加熱,再保壓3~8分鐘。所說的冷卻,是以50~200K/S的降溫速率進行冷卻。

本發(fā)明的合成實驗是在國產(chǎn)DS029B型六面頂壓機上完成的。實驗表明,合成壓力的大小是影響PbTe材料平均粒度,進而影響PbTe材料的熱導率的重要因素,最佳壓力范圍為2.5~6.0Gpa。合成溫度的大小是影響PbTe材料純度的重要因素,最佳溫度范圍為1100~1250K。冷卻時的降溫速率是影響PbTe材料粒度的主要因素,最佳降溫速率為130~200K/S。

為了保持樣品腔體溫度均勻性,組裝可以是旁熱式加熱方式;為了使合成PbTe材料及原料在制備中不被氧化,合成腔體內(nèi)可以充氬氣保護。

本發(fā)明具有合成材料性能好,生產(chǎn)成本低,便于實施等優(yōu)點。PbTe晶體生長良好,X光分析結(jié)果表明PbTe具有NaCl結(jié)構(gòu),電子顯微鏡分析顯示,晶體顆粒大小為納米量級。合成出的PbTe熱導率的值低于1.5w/m.k,電阻率的值在10-5~10-6Ω·m量級。

具體實施方式

將高純Pb粉與Te粉按化學劑量比(1∶1)混合,粉壓成型后,將樣品裝入高壓腔體中。組裝腔體中用石墨作加熱管,用葉臘石做絕緣管,合成壓力為4.0GPa,溫度1200K,停止加熱后樣品的冷卻速率60K/s,合成出PbTe平均晶粒尺寸為1000nm。樣品的電導率為6×10-5Ω·m,熱導率值為1.4w/m.k。

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